China PVD Composite Thin Film Equipment Manufacturers Suppliers Factory

Επισκόπηση προϊόντος

Ο εξοπλισμός PVD Composite Thin Film Equipment είναι μια βιομηχανική πλατφόρμα εναπόθεσης κενού σχεδιασμένη για την εναπόθεση λεπτών μεμβρανών πολλαπλών-, κραμάτων και νανοσύνθετων μεμβρανών. Ενσωματώνοντας πηγές διασκορπισμού μαγνητρονίων και καθοδικού τόξου σε έναν ενιαίο θάλαμο κενού, το σύστημα επιτρέπει τον ακριβή έλεγχο της μικροδομής του φιλμ, της υπολειπόμενης τάσης και της διεπιφανειακής πρόσφυσης. Κατασκευασμένη για συνεχή παραγωγή και προηγμένη Ε&Α, η πλατφόρμα φιλοξενεί μεταλλικά, κεραμικά και πολυμερή υποστρώματα με κλιμακούμενες γεωμετρίες θαλάμου.

PVD σύνθετος εξοπλισμός εναπόθεσης κενού
Αυτή η βιομηχανική σύνθετη πλατφόρμα εναπόθεσης κενού PVD ενσωματώνει πολλαπλές τεχνικές εναπόθεσης σε ένα περιβάλλον ενιαίου θαλάμου για την εναπόθεση ομοιόμορφων, πολλών{0}}μεταλλικών, κράμα ή...
Δείτε περισσότερα
Υβριδικό σύστημα εναπόθεσης λεπτών φιλμ PVD
Το σύστημα εναπόθεσης υβριδικού λεπτού φιλμ PVD ενσωματώνει τη θερμική εξάτμιση, την εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων (e-δέσμη) και τη διασκορπισμό μαγνητρονίων RF/DC σε μια ενιαία αρχιτεκτονική κενού....
Δείτε περισσότερα
PVD Multi-Εξοπλισμός λεπτής μεμβράνης διεργασιών
Ο εξοπλισμός PVD Multi-Process Thin Film Equipment είναι μια ενσωματωμένη πλατφόρμα εναπόθεσης κενού που έχει σχεδιαστεί για να συνδυάζει πολλές τεχνικές κατασκευής...
Δείτε περισσότερα
Εξοπλισμός σύνθετης εναπόθεσης PVD
Ο βιομηχανικός εξοπλισμός σύνθετης εναπόθεσης PVD έχει σχεδιαστεί για την κατασκευή λεπτών-υμενίων πολλαπλών-συστατικών, πολλαπλών-στρώσεων και νανο-σύνθετων μεμβρανών. Το σύστημα ενσωματώνει...
Δείτε περισσότερα
Σύστημα σύνθετων λεπτών φιλμ PVD
Βιομηχανικό-σύστημα επίστρωσης κενού που ενσωματώνει ψεκασμό μαγνητρονίων (RF/DC/HiPIMS) και εξάτμιση καθοδικού τόξου. Σχεδιασμένο για συνεχή, πολλαπλών-στρώσεων, κράματος και νανο{3}}σύνθετης...
Δείτε περισσότερα
PVD Composite Thin Film Equipment
Ο εξοπλισμός PVD Composite Thin Film Equipment είναι μια βιομηχανική πλατφόρμα κενού που έχει σχεδιαστεί για να συνθέτει λεπτές μεμβράνες πολλαπλών-στρώσεων, κράματος και διαβαθμισμένων μεμβρανών....
Δείτε περισσότερα

Τεχνικές Προδιαγραφές

Παράμετρος	Εύρος προδιαγραφών
Απόλυτη πίεση κενού	<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)
Πίεση Εργασίας	0,1 Pa - 5.0 Pa
Θερμοκρασία υποστρώματος	Περιβάλλον έως 800 μοίρες (ελεγχόμενο PID κλειστού-βρόχου)
Πηγές εναπόθεσης	Διαμορφώσιμο: DC/RF Magnetron Sputtering, παλμικό DC, φιλτραρισμένο καθοδικό τόξο
Ομοιομορφία πάχους	< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier
Υλικό θαλάμου	304L/316L από ανοξείδωτο χάλυβα, μηχανική γείωση και ηλεκτρο-γυαλισμένο (Ra<= 0.4 um)
Ενσωμάτωση τροφοδοτικού	Γεννήτριες MF (10-100 kHz), γεννήτριες ραδιοσυχνοτήτων (13,56 MHz), Παλμική πόλωση DC
Σύστημα Ελέγχου	Βιομηχανικό PLC + IPC με αυτοματοποιημένη εκτέλεση συνταγών, παρακολούθηση διασύνδεσης και καταγραφή δεδομένων παρτίδας

Διαδικασία σύνθετης εναπόθεσης

Το σύστημα χρησιμοποιεί μια υβριδική αρχιτεκτονική φυσικής εναπόθεσης ατμών που συνδυάζει τεχνολογίες διασκορπισμού μαγνητρονίου και καθοδικού τόξου.

Συνέργεια πολλών-πηγών:

Η ταυτόχρονη ή διαδοχική λειτουργία πολλαπλών καθόδων επιτρέπει απότομες ή διαβαθμισμένες μεταβάσεις σύνθεσης κατά μήκος της στοίβας φιλμ.

Ion Etching Pre-Καθαρισμός:

Τα στάδια καθαρισμού πλάσματος ραδιοσυχνοτήτων ή συνεχούς ρεύματος αφαιρούν τα εγγενή οξείδια και τους επιφανειακούς ρύπους πριν από την εναπόθεση για να μεγιστοποιήσουν την πρόσφυση-στο-υπόστρωμα.

Έλεγχος αντιδραστικής εναπόθεσης:

Η φασματοσκοπία οπτικής εκπομπής κλειστού-βρόχου (OES) ρυθμίζει την έγχυση αντιδραστικού αερίου (O2, N2, C2H2) για τη διατήρηση της σταθερής στοιχειομετρίας της ένωσης και την πρόληψη της δηλητηρίασης του στόχου.

Πόλωση υποστρώματος:

Τα τροφοδοτικά συγχρονισμένης παλμικής πόλωσης βομβαρδίζουν το αναπτυσσόμενο φιλμ με ιόντα υψηλής{{0} ενέργειας, πυκνώνοντας τη μικροδομή και προσαρμόζοντας την υπολειπόμενη θλιπτική τάση.

Υλικά Ταινιών

Ο εξοπλισμός υποστηρίζει ένα ευρύ φάσμα υλικών-στόχων για προσαρμοσμένες λειτουργικές απαιτήσεις:

Νιτρίδια και καρβίδια μεταβατικών μετάλλων:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN για αντοχή στη φθορά και τη διάβρωση.

Νανοσύνθετα και πολυστρωματικά συστήματα:

TiSiN, AlTiSiN, μεταλλικές/κεραμικές νανοστρώσεις για εξαιρετική σκληρότητα και θερμική σταθερότητα σε υψηλές θερμοκρασίες.

Διαφανή αγώγιμα οξείδια (TCO):

ITO, AZO, IGZO για οπτοηλεκτρονικές και φωτοβολταϊκές εφαρμογές.

Καθαρά μέταλλα και κράματα:

Ti, Cr, Al, Cu, ανοξείδωτος χάλυβας, NiCr για στρώσεις ηλεκτρικής επαφής και φραγμού διάχυσης.

Εφαρμογές

Εργαλεία κοπής ακριβείας:

Εναπόθεση υπερ-σκληρών επικαλύψεων χαμηλής-τριβής (π.χ. TiAlN) σε ένθετα καρβιδίου, τρυπάνια και ακραίες-μύλους για παράταση της λειτουργικής διάρκειας ζωής κάτω από υψηλά θερμικά φορτία.

Εξαρτήματα αυτοκινήτου:

Μεμβράνες με αντίσταση-μείωσης τριβής και φθοράς- σε δακτυλίους εμβόλου, εξαρτήματα ψεκασμού καυσίμου και συγκροτήματα γραναζιών.

Οπτοηλεκτρονική και οθόνες:

Χαμηλή- ειδική αντίσταση, υψηλή-μετάδοση αγώγιμων στρωμάτων οξειδίου για πάνελ αφής και υποστρώματα ηλιακών κυψελών.

Ιατρικές συσκευές:

Βιοσυμβατές και ανθεκτικές στη φθορά-επικαλύψεις σε χειρουργικά εργαλεία και ορθοπεδικά εμφυτεύματα.

Προσαρμογή & Διαμόρφωση Συστήματος

Οι μηχανικές διαμορφώσεις προσαρμόζονται σε συγκεκριμένους περιορισμούς εγκαταστάσεων παραγωγής και συνταγές διαδικασίας:

Μέγεθος θαλάμου:

Επιλογές κυλινδρικού ή ορθογώνιου θαλάμου που κυμαίνονται από συστήματα παρτίδας Ε&Α (διάμετρος 500 mm) έως-μεγάλης κλίμακας φορτίο παραγωγής-συστήματα κλειδαριάς (1000 mm+).

Επιλογή Pumping Suite:

Αντιστοίχιση φυσητήρων ριζών, στροβιλομοριακών αντλιών και κρυογονικών αντλιών με βάση τους απαιτούμενους χρόνους διακοπής της αντλίας- και τα προφίλ φορτίου αερίου.

Στερέωση υποστρώματος:

Εξατομικευμένα στάδια περιστροφής πλανητών, ενότητες 3-δορυφόρου περιστροφής 3 αξόνων ή roll-σε ρολό σχεδιασμένες για σύνθετες τρισδιάστατες γεωμετρίες ή συνεχείς ιστούς.

Επίπεδο αυτοματισμού:

Ημι-μη αυτοματοποιημένες μη αυτόματες διαμορφώσεις φόρτωσης ή πλήρως αυτοματοποιημένα συστήματα μεταφοράς κενού με ρομποτικό χειρισμό υποστρώματος.

Κατασκευή & Ποιοτικός Έλεγχος

Ανίχνευση διαρροής:

Κάθε θάλαμος κενού υποβάλλεται σε δοκιμή διαρροής με φασματόμετρο μάζας ηλίου σε όριο < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Επιθεώρηση συγκόλλησης:

Οι πλευρικές συγκολλήσεις υπό κενό- συγκολλούνται, αλέθονται και γυαλίζονται με TIG, ακολουθούμενες από επιθεώρηση ακτίνων Χ ή διεισδυτικού χρώματος κατόπιν αιτήματος.

Ηλεκτρική Συμμόρφωση και Ασφάλεια:

Πίνακες ελέγχου κατασκευασμένοι σύμφωνα με τα πρότυπα NFPA 79 ή CE/IEC, με ενδιάμεσες κλειδαριές υλικού για ροή νερού, πίεση αερίου και ηλεκτρική ασφάλεια.

Εργοστασιακή δοκιμή αποδοχής (FAT):

Οι δοκιμές πριν από την αποστολή-περιλαμβάνουν 72-ωρη συνεχή ξηρή-κύκλωση, επαλήθευση απόδοσης υπό κενό και δοκιμαστική εναπόθεση επίστρωσης με χρήση συνταγών που καθορίζονται από τον πελάτη.

Εγκατάσταση & Τεχνική Υποστήριξη

Οδηγίες προετοιμασίας ιστότοπου:Παρέχεται ολοκληρωμένο έγγραφο απαιτήσεων εγκατάστασης με λεπτομέρειες για τις διεπαφές βοηθητικών υπηρεσιών (ροή/πίεση νερού ψύξης, ηλεκτρικό φορτίο, πεπιεσμένος αέρας, καυσαέρια).

Σε-Ενεργοποίηση ιστότοπου:Οι μηχανικοί επιτόπου σέρβις εκτελούν μηχανική ευθυγράμμιση, ελέγχους διαρροής κενού, ηλεκτρικές συνδέσεις-και αρχική βαθμονόμηση.

Ρύθμιση συνταγής διαδικασίας:Συνεργασία επιτόπου-με πελάτες μεταλλουργούς και μηχανικούς επεξεργασίας για να κλειδώσετε τις παραμέτρους πάχους, καταπόνησης και σκληρότητας φιλμ στόχου.

Υποστήριξη Κύκλου Ζωής:Διασύνδεση απομακρυσμένων διαγνωστικών, εντοπισμένο απόθεμα ανταλλακτικών και προγραμματισμένα προγράμματα προληπτικής συντήρησης.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

FAQ

Ε: Ποιος είναι ο τυπικός χρόνος απενεργοποίησης της αντλίας-για την επίτευξη της βασικής πίεσης;

Α: Χρησιμοποιώντας τυπικές διαμορφώσεις υψηλού{0}}κενού (στροβομοριακές ή κρυογονικές αντλίες σε συνδυασμό με αντλίες υποστήριξης ριζών/περιστροφικών πτερυγίων), ο θάλαμος εκκενώνεται από την ατμόσφαιρα σε < 5,0 x 10^-4 Pa εντός 25 έως 40 λεπτών, ανάλογα με τον όγκο του θαλάμου και το φορτίο εξαγωγής υγρασίας.

Ε: Μπορεί το σύστημα να εναλλάσσεται αυτόματα μεταξύ αντιδραστικών και μη{0}}λειτουργιών ψεκασμού;

Α: Ναι. Το λογισμικό ελέγχου PLC διαχειρίζεται δυναμικά τους ελεγκτές ροής μάζας (MFC) και τις εξόδους τροφοδοσίας ισχύος, επιτρέποντας την αυτοματοποιημένη μετάβαση μεταξύ της μεταλλικής εναπόθεσης και του σχηματισμού αντιδραστικής ένωσης μέσα σε έναν μόνο κύκλο διεργασίας.

Ε: Ποιες γεωμετρίες υποστρώματος μπορεί να φιλοξενήσει το τυπικό στάδιο περιστροφής των πλανητών;

Α: Το τυπικό πλανητικό εξάρτημα 3 αξόνων χειρίζεται πολύπλοκα εξαρτήματα 3D, όπως εργαλεία κοπής και βαλβίδες αυτοκινήτου. Οι προσαρμοσμένες σέγα μπορούν να κατασκευαστούν για επίπεδα υποστρώματα έως 400 mm x 400 mm ή κυλινδρικά ρολά.

Ε: Πώς διασφαλίζετε την ομοιομορφία του πάχους του φιλμ σε μεγάλες παρτίδες;

Α: Η ομοιομορφία επιτυγχάνεται μέσω της βελτιστοποιημένης απόστασης καθόδου-στο-υποστρώματος, προσομοίωσης προφίλ τοπικού μαγνητικού πεδίου και πλανητικής περιστροφής πολλαπλών-αξόνων. Η πραγματική ομοιομορφία επαληθεύεται μέσω δειγματοληπτικού ελέγχου μάρτυρα κατά τη διάρκεια του FAT.

Ε: Ποιες είναι οι απαιτήσεις χρησιμότητας για μια τυπική βιομηχανική μονάδα;

Α: Συνήθως απαιτεί 3-φασικά 380V/480V (50/60Hz), παροχή κρύου νερού ψύξης (περίπου 15 έως 20 βαθμούς στα 3 έως 4 bar), πεπιεσμένο αέρα (6 bar) για πνευματικές βαλβίδες και καθαρό ξηρό αέρα ή άζωτο για εξαερισμό. Τα ακριβή φορτία διαφέρουν ανάλογα με τη διαμόρφωση του τροφοδοτικού.

Είμαστε-γνωστοί ως ένας από τους κορυφαίους κατασκευαστές και προμηθευτές εξοπλισμού σύνθετου υλικού pvd λεπτής μεμβράνης στην Κίνα. Εάν πρόκειται να αγοράσετε προσαρμοσμένο εξοπλισμό λεπτής μεμβράνης από σύνθετο pvd κατασκευασμένο στην Κίνα, καλώς ήλθατε να λάβετε τον τιμοκατάλογο από το εργοστάσιό μας. Για διαβούλευση τιμών, επικοινωνήστε μαζί μας.