Εξοπλισμός λεπτού φιλμ στο πλάσμα

Ο ενισχυμένος με το πλάσμα εξοπλισμός λεπτού φιλμ είναι μια τεχνολογία καθαρού καθαρισμού ιόντων (καθαρή δέσμη ιόντων), τεχνολογία καθαρισμού δέσμης ιόντων υψηλής ενέργειας (IonBeam), τεχνολογία ψεκασμού μαγνητρόνης (Sputter) και εναπόθεση ατμών μαγνητικού περιορισμού (μαγνητικό περιορισμό-CVD) είναι τέσσερις τεχνολογίες σε μία,

Ο ενισχυμένος με το πλάσμα εξοπλισμός λεπτού φιλμ παρέχει έναν πιο ευέλικτο συνδυασμό διεργασιών για να ικανοποιήσει μια ποικιλία πολύπλοκων αναγκών προϊόντων και η ισχυρή υβριδική διαδικασία παρέχει περισσότερες δυνατότητες για τους σχεδιαστές διαδικασιών.

Πράγμα ενίσχυση εξοπλισμού λεπτού φιλμ σύντομη εισαγωγή λειτουργιών εξοπλισμού:

(1) Η πηγή επικάλυψης καθαρού ιόντων, χρησιμοποιώντας αποτελεσματικό σύστημα ηλεκτρομαγνητικής διήθησης, απομακρύνει αποτελεσματικά τα σωματίδια, επιτυγχάνει δέσμη ιόντων υψηλότερης καθαρότητας, συμβάλλει στη βελτίωση της σκληρότητας και της δέσμευσης επικάλυψης και της δύναμης δέσμευσης.

(2) πηγή καθαρισμού δέσμης υψηλής ενέργειας, χρησιμοποιώντας μια ειδικά σχεδιασμένη δομή εκφόρτισης, αποτελεσματικά συμβατή με την ενεργοποίηση καθαρισμού στο πλάσμα, τον βοηθητικό ιονισμό, την ανεξάρτητη εναπόθεση και άλλες λειτουργίες.

(3) Η πηγή ψεκασμού Magnetron, χρησιμοποιώντας καινοτόμο σχεδιασμό μαγνητικού πεδίου, βελτιώνει αποτελεσματικά τον ρυθμό χρήσης στόχου άνω του 30%.

(4) Η μαγνητικά περιορισμένη πηγή εναπόθεσης ατμών, αξιόπιστη και εύκολη στη διατήρηση της δομής, μπορεί να επιτύχει γρήγορη και λεπτή εναπόθεση επίστρωσης.

Τυπικοί τύποι επικάλυψης:

(1) ME-TAC, Metal TAC Composite Coating, ευρέως χρησιμοποιούμενη

(2) ME-DLC, Metal DLC Composite Coating, ευρέως χρησιμοποιούμενη

(3) ME-TAC-DLC, σύνθετες επικαλύψεις TAC-DLC, ενώ λαμβάνουν υψηλότερη βασική σκληρότητα και δύναμη δέσμευσης του TAC, έχουν το ρυθμό εναπόθεσης και την λεπτή εμφάνιση του DLC.

Η Express Plasma που ενισχύεται ο εξοπλισμός λεπτού φιλμ μπορεί να συνειδητοποιήσει τον συνδυασμό TAC-DLC, ο οποίος βελτιώνει σημαντικά τη δύναμη δέσμευσης σε σύγκριση με την απλή CVD, μειώνοντας ταυτόχρονα το μέγεθος των σωματιδίων της PVD και τη μείωση του χρόνου της διαδικασίας.

Express Plasma Ενισχυμένο εξοπλισμό λεπτού φιλμ μπορεί να επιτύχει μια ποικιλία από εναπόθεση φιλμ, καθαρή επένδυση ιόντων TAC, εκφόρτιση μαγνητικού περιορισμού DLC, ανοδική στρώμα ιόντων πύλη DLC κ.λπ.

Το Express Plasma Enduced Experial Film Equipment είναι εξοπλισμένος με μια ηλεκτρομαγνητική συσκευή σάρωσης και λογισμικό, το οποίο μπορεί να ελέγξει την κατεύθυνση της δέσμης του πλάσματος σε σταθερό σημείο και χρόνο, βελτιώνοντας σημαντικά το πρόβλημα της ομοιομορφίας επικάλυψης και η ομοιομορφία ολόκληρου του στρώματος φιλμ του κλιβάνου ελέγχεται κάτω από ± 5%. Express Βελτιστοποιημένο σχεδιασμό μαγνητικού πεδίου και σχεδιασμός ψύξης, εύκολη συντήρηση, καλή σταθερότητα εξοπλισμού.

Express Friendly Man-Machine Interface, Καταγραφή δεδομένων διεργασίας σε πραγματικό χρόνο, ευνοεί τον ποιοτικό έλεγχο, τη δύσκολη ανάλυση, την ανάπτυξη νέων διαδικασιών.

Express Αυτό το έργο είναι ένας εξοπλισμός με το κλειδί στο χέρι, η εταιρεία Pure Source Company παρέχει μια πλήρη λύση, συμπεριλαμβανομένης της σταθερής ώριμης φόρμουλας επικάλυψης.