Το βιομηχανικό σύστημα λεπτής μεμβράνης εξάτμισης καθοδικού τόξου έχει σχεδιαστεί για την υψηλή-απόθεση πυκνών, ισχυρά προσκολλημένων μεταλλικών, κραμάτων και κεραμικών σύνθετων επιστρώσεων. Λειτουργώντας μέσω χαμηλής-τάσης, υψηλής-εκφόρτισης τόξου ρεύματος σε στόχους στερεάς καθόδου, το σύστημα εξατμίζει το υλικό απευθείας σε κατάσταση πλάσματος υψηλού ιονισμού (αναλογία ιόντων μετάλλου 40% - 80%). Αυτό οδηγεί ενεργητικά ιόντα στη διεπιφάνεια του υποστρώματος, παράγοντας ανώτερη πρόσφυση επίστρωσης σε σύγκριση με την τυπική θερμική εξάτμιση ή τις συμβατικές μεθόδους ψεκασμού.
Κατασκευασμένο για περιβάλλοντα παραγωγής και προηγμένα κέντρα έρευνας υλικών, το σύστημα εναποθέτει σκληρά,{0}}ανθεκτικά τριβολογικά στρώματα-όπως TiN, TiAlN, CrN και AlCrN-σε κοπτικά εργαλεία, καλούπια και μηχανικά εξαρτήματα ακριβείας. Ο αρθρωτός θάλαμος κενού δέχεται κλιμακούμενες διαμορφώσεις πολλαπλών-καθόδων και αυτοματοποιημένη πλανητική περιστροφή 3-αξόνων για να διασφαλιστεί η επαναληψιμότητα από παρτίδα-σε παρτίδα.
Τεχνικές Προδιαγραφές
|
Τεχνική Παράμετρος |
Εύρος προδιαγραφών / Τιμή |
|
Τελική πίεση κενού |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (achieved via turbomolecular and rotary/dry backing pump combination) |
|
Διαστάσεις θαλάμου |
Προσαρμοσμένη εσωτερική διάμετρος (Τυπικά βιομηχανικά μοντέλα: διάμετρος. 600 mm έως διάμετρος. 1200 mm) |
|
Υλικό θαλάμου |
Διπλό-ανοξείδωτο ατσάλι SUS304 με εσωτερικά ελικοειδή κανάλια ψύξης νερού- |
|
Τροφοδοτικά Arc |
Γεννήτριες τόξου συνεχούς ρεύματος: 10A - 200Α ρυθμιζόμενο; Διαθέσιμες επιλογές παλμικού τόξου |
|
Ισχύς μεροληψίας υποστρώματος |
-100V - -1000V ρυθμιζόμενη τροφοδοσία παλμικής πόλωσης (10kHz - 100kHz) |
|
Πηγές καθόδου |
2 - 6 εναλλάξιμοι μαγνητικοί-σταθμοί καθόδου διεύθυνσης (διάμετρος. 85 mm ή διάμετρος. 100 mm) |
|
Περιστροφή υποστρώματος |
Κίνηση πλανητικής περιστροφής 3 αξόνων με έλεγχο μεταβλητής ταχύτητας (0 - 10 σ.α.λ.) |
|
Συνολική συνδεδεμένη ισχύς |
45kVA - 120kVA (εξαρτάται από τον όγκο του θαλάμου και τον αριθμό των πηγών) |
|
Απαίτηση νερού ψύξης |
Ρυθμός ροής: 15 - 40 m^3/h; Πίεση: 0.2 - 0.3 MPa; Θερμοκρασία: 18 - 25 βαθμοί Κελσίου |
Βασικά Χαρακτηριστικά
Μαγνητική-Τεχνολογία καθόδου διεύθυνσης:Τα μαγνητικά πεδία κλειστού-βρόχου σαρώνουν το σημείο της καθόδου στην επιφάνεια στόχο, αυξάνοντας τα ποσοστά χρήσης στόχου πάνω από 55% και καταστέλλοντας τον εντοπισμένο κρατήρα στόχου.
High Rate Ionization PlasmΔημιουργεί αναλογίες μεταλλικών ιόντων έως και 80%, παρέχοντας υψηλή κινητική ενέργεια για πυκνή ανάπτυξη φιλμ και βαθιά μεταλλουργική διάχυση στη διεπιφάνεια του υποστρώματος.
Προγραμματιζόμενη απόθεση πολλαπλών-επιπέδων:Το βιομηχανικό PLC σε συνδυασμό με μια αρχιτεκτονική ελέγχου HMI εκτελεί αυτοματοποιημένη αλληλουχία αντιδραστικών αερίων (N2, O2, C2H2) για λειτουργικές αρχιτεκτονικές επικάλυψης με κλίση και νανοστρώσεις.
Σε-Εγγραφή πλάσματος Situ:Ενσωματώνει βομβαρδισμό μεταλλικών ιόντων και μη ισορροπημένα στάδια καθαρισμού μαγνητρονίων πριν από την εναπόθεση για την απομάκρυνση των φυσικών οξειδίων και των επιφανειακών ρύπων.
Διαμόρφωση συστήματος κενού
Το υποσύστημα κενού έχει σχεδιαστεί για γρήγορους κύκλους-κάτω αντλίας και σταθερή πίεση λειτουργίας υπό συνεχή είσοδο αντιδραστικού αερίου:
Στάδιο Roughing & Roots:Απευθείας-οδηγούμενο περιστροφικό πτερύγιο ή αντλία ξηρής βίδας σε συνδυασμό με φυσητήρα Roots, εκκενώνοντας τον θάλαμο από την ατμοσφαιρική πίεση στα 10 Pa μέσα σε 5 λεπτά.
Στάδιο υψηλού κενού:Στροβιλομοριακή αντλία μαγνητικής αιώρησης που παρέχει υψηλή ογκομετρική ταχύτητα άντλησης για υδρατμούς και υπολειμματικά αέρια, εξασφαλίζοντας στόχους βασικής πίεσης κάτω από 5,0 x 10^-4 Pa.
Βαλβίδες και μετρητές:Πνευματικές βαλβίδες πύλης και ηλεκτρο-πνευματικές γωνιακές βαλβίδες ενσωματωμένες με μετρητές συνδυασμού Pirani/Penning πλήρους εύρους-για αυτοματοποιημένες ασφάλειες.
Ρύθμιση πίεσης:Αντίδραση μανόμετρου χωρητικότητας κλειστού-βρόχου συνδεδεμένη με ελεγκτές ροής μάζας υψηλής
Υλικά εξάτμισης & Συμβατότητα υποστρώματος
Υλικά Στόχου
Καθαρά μέταλλα:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, Mo, W, Nb.
Στόχοι κράματος:TiAl (50/50, 33/67), TiSi, CrAl.
Ανθρακας:Στόχοι γραφίτη για υβριδική εναπόθεση-όπως άνθρακα (DLC).
Συμβατότητα υποστρώματος
Σκληρά μέταλλα / Καρβίδια με τσιμέντο:WC-Ενθέματα κοπής, μύλοι και εργαλεία φόρμας.
Χάλυβες υψηλής-ταχύτητας (HSS):Βρύσες, τρυπάνια και καρφίτσες.
Μηχανικοί Χάλυβες:Ανοξείδωτο χάλυβα, κράματα τιτανίου και υπερκράματα με βάση το νικέλιο-υψηλής θερμοκρασίας.
Δομικά Κεραμικά:Συστατικά αλουμίνας και νιτριδίου του πυριτίου που απαιτούν τριβολογική τροποποίηση.
Εφαρμογές
Εργαλεία κοπής και μηχανικής κατεργασίας:Εναπόθεση επιστρώσεων TiAlN και AlCrN σε ένθετα καρβιδίου για αύξηση της αντοχής στην οξείδωση έως και 900 βαθμούς C και παράταση της διάρκειας ζωής του εργαλείου κατά τη διάρκεια ξηρής κοπής υψηλής ταχύτητας-.
Εξαρτήματα αυτοκινήτου:Σκληρή επίστρωση δακτυλίων εμβόλου, ανυψωτικών βαλβίδων και ακίδων ψεκασμού καυσίμου για μείωση των οριακών συντελεστών τριβής κάτω από 0,1 και αποφυγή γδαρσίματος.
Καλούπια & μήτρες:Εφαρμογή μεμβρανών CrN και TiCN σε πλαστικά καλούπια έγχυσης και μήτρες σφράγισης μετάλλων για την αποφυγή φθοράς της κόλλας και θολώματος υλικού.
Υλικό αεροδιαστημικής:Προστατευτικές επιστρώσεις ανθεκτικές στη διάβρωση-σε συνδετήρες ακριβείας και εξαρτήματα συμπιεστή που λειτουργούν σε διαβρωτικά περιβάλλοντα.
Επιλογές προσαρμογής
Γεωμετρία θαλάμου:Κατακόρυφα λάκκους-στυλ φόρτωσης ή οριζόντια μπροστινά-σχέδια θυρών φόρτωσης προσαρμοσμένα στις διαρρύθμιση δαπέδων καταστημάτων-.
Ενσωμάτωση υβριδικής πηγής:Διαμορφώσεις διπλής-τεχνολογίας που συνδυάζουν εξατμιστές καθοδικού τόξου με κάθοδοι αστάθμητου ψεκασμού μαγνητρονίου (UBMS) ή πιστόλια γραμμικών ιόντων.
Επίπεδο αυτοματισμού:Επιλογές ολοκλήρωσης εργοστασίων, όπως αυτοματοποιημένοι ρομποτικοί βραχίονες φόρτωσης ή τοποθέτηση σε διαχωριστικό τοίχο σε καθαρό δωμάτιο.
Ηλεκτρονικά Ισχύος:Προσαρμοσμένες γεννήτριες παλμικής πόλωσης βελτιστοποιημένες για μονωτικά υποστρώματα ή ευαίσθητα σε θερμοκρασία-υλικά βάσης.
Ποιοτικός Έλεγχος & Εργοστασιακές Δοκιμές
Ανίχνευση διαρροής:Πραγματοποιήθηκε δοκιμή διαρροής με φασματόμετρο μάζας ηλίου σε όλους τους θαλάμους κενού και τις ραφές συγκόλλησης, διατηρώντας τους συνολικούς ρυθμούς διαρροής κάτω από 1,0 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Έλεγχος ηλεκτρικής ασφάλειας:Έλεγχος αντίστασης μόνωσης και συνέχειας γείωσης σύμφωνα με τα πρότυπα CE και ηλεκτρικής ασφάλειας.
Λειτουργική ξηρή λειτουργία:Δοκιμή συνεχούς αυτοματοποιημένου κύκλου στεγνώματος 72 ωρών μηχανικών μηχανισμών περιστροφής, αλληλουχίας βαλβίδων και παρεμβολών ροής νερού ψύξης.
Επαλήθευση διαδικασίας (FAT):Προαιρετική εναπόθεση επιστρώσεων TiN αναφοράς σε κουπόνια δοκιμής που παρέχονται από τον πελάτη-για την επαλήθευση της ομοιομορφίας του πάχους του φιλμ, της νανο-σκληρότητας και της αντοχής πρόσφυσης στις γρατσουνιές πριν από το κιβώτιο.
Εγκατάσταση & Τεχνική Υποστήριξη
Οδηγός προετοιμασίας ιστότοπου:Λεπτομερής μηχανική τεκμηρίωση εγκαταστάσεων που καλύπτει όρια φόρτωσης δαπέδου, αγωγούς εξάτμισης, προδιαγραφές κρύου νερού και ηλεκτρικές σταγόνες που παρέχονται 4 εβδομάδες πριν από την παράδοση.
Σε-Ενεργοποίηση ιστότοπου:Οι μηχανικοί επιτόπιων υπηρεσιών επιβλέπουν τη μηχανική τοποθέτηση, τις συνδέσεις βοηθητικών υπηρεσιών, τη σφράγιση υπό κενό και την ηλεκτρική ενοποίηση.
Διαδικασία Εκπαίδευσης:Πραγματικά-στην εκπαίδευση χειριστή που καλύπτει τη συντήρηση θαλάμου, τα πρωτόκολλα αντικατάστασης στόχου, την αντιμετώπιση προβλημάτων κενού και τη διαχείριση συνταγών.
Απομακρυσμένη διάγνωση:Ασφαλής βιομηχανική πύλη VPN ενσωματωμένη στον πίνακα ελέγχου για απομακρυσμένες ενημερώσεις λογισμικού, ανάλυση καταγραφής παραμέτρων και διάγνωση σφαλμάτων.
FAQ
Ε: Πώς ελέγχει το σύστημα τη δημιουργία μακροσωματιδίων (σταγονιδίων) που είναι εγγενής στην εξάτμιση του καθοδικού τόξου;
Α: Το σύστημα ενσωματώνει μαγνητικά πεδία διεύθυνσης για να σαρώσει γρήγορα το σημείο της καθόδου στην επιφάνεια στόχο, μειώνοντας το σχηματισμό μακροσωματιδίων. Για εφαρμογές που απαιτούν εξαιρετικά λείες επιφάνειες (Ra < 0,05 um), μπορούν να ενσωματωθούν αγωγοί φίλτρου μακροσωματιδίων (φιλτραρισμένο καθοδικό τόξο) ή διαμορφώσεις υβριδικού ψεκασμού μαγνητρονίων.
Ε: Ποιο είναι το τυπικό ποσοστό χρησιμοποίησης στόχου και πώς αντικαθίστανται οι στόχοι;
Α: Χρησιμοποιώντας τη μαγνητική-τεχνολογία διεύθυνσης, η στοχευόμενη χρήση κυμαίνεται μεταξύ 50% και 60%. Οι κάθοδοι έχουν σχεδιαστεί με μηχανισμούς γρήγορου-σφιγκτήρα, που επιτρέπουν σε έναν εκπαιδευμένο χειριστή να ολοκληρώσει την αντικατάσταση του στόχου και τον καθαρισμό καθόδου εντός 30 λεπτών ανά σταθμό.
Ε: Μπορεί το σύστημα να εκτελέσει αυτοματοποιημένες διαδικασίες επίστρωσης πολλαπλών{0}}επιπέδων ή διαβάθμισης;
A: Yes. The industrial PLC and HMI system store up to 100 recipe profiles. It automatically regulates gas mass flow controllers, arc current ramps, and bias voltage pulsing to deposit complex architectural layers (e.g., bonding layer -> gradient layer ->λειτουργικό νανο-πολυεπίπεδο) χωρίς παρέμβαση χειριστή.
Ε: Ποιες είναι οι απαιτήσεις χρησιμότητας για ένα τυπικό σύστημα διαμέτρου. 900 mm;
Α: Μια τυπική μονάδα διαμέτρου. 900 mm απαιτεί τροφοδοτικό 3 φάσεων 380V/480V (50/60Hz) με φορτίο αιχμής περίπου 75kVA, παροχή κρύου νερού κλειστού βρόχου (25 m^3/h στα 0,25 MPa) και παροχή καθαρού, ξηρού αέρα (val.pu.
Δημοφιλείς Ετικέτες: σύστημα λεπτής μεμβράνης εξάτμισης τόξου, κατασκευαστές συστημάτων λεπτής μεμβράνης εξάτμισης τόξου Κίνας, προμηθευτές, εργοστάσιο

